| 品 ?????牌： | KRI |
| 單????? 價： | 面議面議 |
| 最小起訂： | 1 臺 |
| 發(fā)貨期限： | 自買家付款之日起 60起 天內發(fā)貨 |
| 所??在?地： | 上海市 上海 |
| 供貨總量： | 1000 臺 |
| 有效期至： | 長期有效 |
| 聯(lián)系我時，請?zhí)峒霸诎俜骄W看到，會有優(yōu)惠。 | |
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上海伯東代理美國考夫曼博士設立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵極離子源.
離子束流: >800 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力: < 0.5m Torr
離子束可聚焦, 平行, 散射.
采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.
通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術參數:
離子源型號 | RFICP 220 |
Discharge | RFICP 射頻 |
離子束流 | >800 mA |
離子動能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 20 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 10-40 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 30 cm |
直徑 | 41 cm |
中和器 | LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 220 應用領域：
1. 預清洗
2. 表面改性
3. 輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,
4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
5. 離子濺射沉積和多層結構 IBSD
6. 離子蝕刻 IBE
若您需要進一步的了解詳細產品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡方式 :
上海伯東 : 羅先生 臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
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